专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种卤水提溴方法-CN201010228529.0有效
  • 张慧峰;刘伟;姚颖;高书宝;王颖;张雨山;王国强 - 国家海洋局天津海水淡化与综合利用研究所
  • 2010-07-16 - 2010-11-10 - C01B7/09
  • 利用非极性溶剂与疏水性微孔的亲和作用,形成微孔支撑的有机溶剂,将含游离溴的卤水和吸收分别在两侧流动,借助于游离溴在有机溶剂中的溶解和扩散作用,使游离溴通过被碱性吸收吸收,以分离富集卤水中的溴技术步骤包括有机制备、卤水酸化氧化和溴分离提取。将疏水性微孔浸泡在非极性有机溶剂中制备有机,将通入氯气和加酸的酸化氧化卤水与碱性吸收分别在有机的两侧流动。有机制备步骤中的有机溶剂为煤油、四氯化碳、二氯乙烷,疏水性微孔为聚丙烯、聚偏氟乙烯、聚乙烯的微孔。溴分离提取步骤中的碱性吸收为浓度28g/L的甲酸钠溶液或浓度40g/L的氢氧化钠溶液。
  • 一种卤水方法
  • [发明专利]基体表面上的有机的除去方法及除去装置-CN200680021380.0无效
  • 新妻裕志;饭沼和久 - 东亚合成株式会社
  • 2006-03-06 - 2008-06-11 - H01L21/027
  • 本发明提供一种在不更换剥离的情况下将半导体用晶片或液晶用基板等基板表面上的光敏抗蚀剂被从基板上除去的方法。使以在一个分子中具有两个以上氧的有机环状化合物例如碳酸亚烷基酯为主成分的剥离与所述基体表面上的光敏抗蚀剂被接触,除去所述被后,对含在剥离中的所述被成分进行超滤处理,由此从剥离中去除,将去除了所述被成分的剥离循环再利用于基体表面上的有机的除去提供具有有机的基体表面的有机的除去装置,其特征在于,包括:导入新剥离,且导入处理后的剥离的混合剥离贮槽;从混合剥离贮槽机构向接触槽供给剥离的机构;收容具有有机的基体的基体固定器;从基体固定器取出具有有机的基体,并导入接触槽中,在接触槽内,使剥离与基体的具有有机的表面接触,使有机溶解于剥离中,从基体表面除去有机,从接触槽捞出除去了有机的基体的机构;从接触槽排出溶解有机的剥离;导入从接触槽排出的剥离滤装置;使从滤装置排出的剥离循环,并使所述剥离返回到混合剥离贮槽的机构。
  • 基体表面上有机除去方法装置
  • [发明专利]基片处理方法和基片处理系统-CN202180013830.6在审
  • 斋藤祐介;村松诚;藤井宽之 - 东京毅力科创株式会社
  • 2021-02-05 - 2022-09-16 - H01L21/3065
  • 本发明的对基片进行处理的基片处理方法包括:将包含有机金属配合物、溶剂和添加物的涂敷涂敷于基片,形成上述涂敷的步骤;对形成有上述涂敷的基片进行加热,形成含有机成分的金属氧化的步骤,其中,上述含有机成分的金属氧化是包含上述添加物中所含的有机成分的金属氧化;将上述含有机成分的金属氧化作为掩模进行干蚀刻的步骤;在上述干蚀刻后,将上述含有机成分的金属氧化中的上述有机成分除去的步骤;和将从上述含有机成分的金属氧化中除去了上述有机成分的通过湿蚀刻除去的步骤
  • 处理方法系统
  • [发明专利]一种增强器输出屏用有机、制备及使用方法-CN201910009526.9有效
  • 袁博 - 潍坊华鼎电子技术有限公司
  • 2019-01-04 - 2021-06-04 - C09D133/10
  • 本发明公开了一种增强器输出屏用有机、制备及使用方法,配方包括成材料、增塑剂、溶剂和助溶剂,成材料包括重量比为(20~24):(0.2~0.6):(2~5)的聚甲基丙烯酸异丁酯、聚甲基丙烯酸乙酯和0.5s硝化棉,成材料重量与增塑剂的体积比为3~8g/ml;上述配方的有机的制备方法为上述配方中的各组分混合搅拌均匀后静置、自然醇化,制备出有机;上述有机的使用方法包括根据输出屏玻璃衬底的大小,利用全自动生化分析仪的微量移系统定量移取有机,完成有机的滴涂,并制备成有机
  • 一种增强输出有机制备使用方法
  • [发明专利]一种基于微纳结构表面盖印的超亲水有机的制备方法-CN201711338953.9有效
  • 梁帅;马智波;张塽;陈冠浩;赵帆;李敏 - 北京林业大学
  • 2017-12-14 - 2021-06-04 - B01D71/34
  • 本发明提供一种超亲水有机的制备方法,该方法包括:(1)提供表面具有微纳结构的薄片;(2)提供铸,并在玻璃平板上形成一层铸;(3)在铸四周安置高度可调的垫层;(4)将微纳结构薄片覆盖于铸表面,由垫层支撑;(5)将玻璃平板置于凝胶浴中,形成表面具有互补微纳结构的有机;(6)通过等离子体诱导接枝聚合在所述有机的互补微纳结构表面接枝聚甲基丙烯酸高分子,得到改性有机;(7)将所述改性有机浸泡于表面经硅烷偶联剂修饰的二氧化硅纳米颗粒悬浮中本发明制得的有机表面具有多层级微纳结构,具有超亲水、高通量、持久抗污染的特性,在法水处理领域具有良好的应用前景。
  • 一种基于结构表面盖印超亲水有机制备方法
  • [实用新型]一种处理化妆品级烟酰胺的有机优化装置-CN202223189925.4有效
  • 居虎军;齐勇;韩道平;刘淑琦;杨红军;胡昊;陈洋 - 江西海文生物科技有限公司
  • 2022-11-30 - 2023-03-28 - B01D36/00
  • 本实用新型公开了一种处理化妆品级烟酰胺的有机优化装置,包括进料储罐,进料储罐的顶部设置有滤袋,滤袋上设置有铁环,滤袋通过铁环和螺母固定在进料储罐的顶部,进料储罐的一侧设置有物料泵装置,物料泵装置的进料口通过进软管连接有进料储罐,物料泵装置的出料口通过出软管连接有有机装置。本实用新型的处理化妆品级烟酰胺的有机优化装置,可以有效的解决现在使用陶瓷,经过低温放置一段时间后,会出现大量的悬浮颗粒,在经过有机处理时,悬浮物会堵着有机孔,导致物料无法有效的进行过处理的问题,可提高有机使用寿命,除去陶瓷中部分杂质,提高使用的反应纯度。
  • 一种处理化妆品级烟酰胺有机优化装置
  • [发明专利]基板处理方法以及基板处理装置-CN201810203165.7有效
  • 小林健司;奥谷学 - 斯克林集团公司
  • 2015-03-25 - 2022-12-02 - H01L21/02
  • 该方法包括:有机溶剂置换工序,将表面张力比在保持为水平姿势的基板的上表面附着的冲洗液的表面张力低的液体的有机溶剂向基板的上表面供给,以在基板上形成覆盖基板的上表面的有机溶剂的,利用有机溶剂置换冲洗液;基板高温化工序,在形成有机溶剂的后,使基板的上表面到达比有机溶剂的沸点更高的规定的第一温度,由此,在有机溶剂的的整个区域,在有机溶剂的和基板的上表面之间形成有机溶剂的蒸发气体,并且使有机溶剂的浮起在有机溶剂的蒸发气体的上方;有机溶剂排除工序,将浮起的有机溶剂的从基板的上表面的上方排除。
  • 处理方法以及装置

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